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株式会社イトーキ（本社:東京都中央区 代表取締役社長:湊 宏司）のグループ会社である株式会社ダルトン（本社:東京都中央区 代表取締役社長:澤田 正）は、2025年12月17日（水）～19日（金）に東京ビッグサイトで開催される、半導体産業における製造技術、装置、材料から車やIoT機器などのSMARTアプリケーションまでをカバーする、エレクトロニクス製造の国際展示会「SEMICON Japan 2025」に出展します。今回は蒸気2流体洗浄装置やオゾン水生成装置を実機展示し、デモンストレーションなどを通して各装置の特長を体験いただけます。

ダルトンでは、従来有していたドラフトチャンバー製造技術をウエハーの研究工程に活かせないかというアイデアから、1990年より半導体製造装置事業を開始しました。半導体製造における剥離、洗浄、乾燥、メッキ、溶剤再生など、ウエハーや治具、用途に応じて、研究開発向けの少量生産用から量産機まで、前工程分野を中心に幅広い工程に対応しています。

今回の展示会では、昨今のトレンドとなる「環境負荷低減」をテーマに、蒸気2流体洗浄装置やオゾン水生成装置、FOUP関連装置など薬液レスでウエハー処理が可能な装置を多数展示します。またそれ以外にも、リフトオフ・レジスト剥離装置やエッチング装置などの幅広い装置ラインアップを、グラフィックや動画を通じてご紹介します。

・蒸気2流体洗浄装置
薬液ではなく水蒸気と水を超音速で噴射して異物を除去する洗浄装置です。蒸気と水の2流体を超音速で噴射させ、無数の水滴が対象物に衝突する事で、水滴中にキャビテーション（真空の泡）を発生させ、真空の泡が潰れる時に発生する衝撃波の力を利用して除去します。異物除去、研磨後の洗浄、メタルリフトオフ、レジスト剥離などに使用されます。本装置の洗浄技術を、出展社セミナーでもご説明します。

・オゾン水生成装置
薬液の代わりにオゾン水を生成させて洗浄プロセスに使用できる装置です。各種洗浄装置のオプションとして使用可能です。循環方式を採用し、溜まり水・捨て水が極めて少なく、濃度の立ち上がりが早いこと (約1分でオゾン水を生成可能)が特長です。独自技術により精密洗浄に適したオゾン水を生成します。

・FOUP洗浄装置（グラフィック展示）
ウエハーの保管や輸送で使われる密閉容器であるFOUPを洗浄する装置です。独自の洗浄処理で、FOUP内に残る不要物やパーティクルの洗浄が可能です。更に、瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能であり、高い洗浄能力を有しています。また洗浄液は純水のみで使用量も少ないため、環境負荷低減に繋がります。FOUPの ボックスと蓋を別エリアにて洗浄・真空プロセスにかけることも可能です。

https://www.semiconjapan.org/jp/about/pricing-and-register

「次世代洗浄プロセス：蒸気2流体と高温高濃度オゾン水による薬品フリーレジスト除去」
蒸気2流体洗浄の3つのメカニズムと、洗浄用途や処理実績についてご説明いたします。
日時：2025年12月18日(木) 11時30分～12時20分
場所：西2ホール2F 商談室2
※来場者バッジをお持ちの方はどなたでもご参加いただけます。